2025年10月21日、第45回 日本セラミックス協会 電子材料研究討論会において、また研究室の茂田井大輝さん（D2）が 「最優秀賞」を受賞しました。

■ 受賞課題：『硫黄プラズマを用いた結晶性硫化物薄膜の低温成膜』
■ 受賞日：2025年10月21日

■ 詳細（第45回 日本セラミックス協会 電子材料研究討論会）
■ 原子空間制御プロセス研究分野（小俣研究室）