組頭研究室の早坂亮太朗さん（M1）が、APL Materials の論文賞「Excellence in Research Award 3rd Prize」を受賞しました。

■ 受賞論文タイトル： “Common anion rule in oxide heterointerfaces: Experimental verification by in situ photoemission spectroscopy”
■ 著者：Ryotaro Hayasaka, Tatsuhiko Kanda, Yuuki Masutake, Duy Khanh Nguyen, Naoto Hasegawa,Seitaro Inoue, Asato Wada, Miho Kitamura, Daisuke Shiga, Kohei Yoshimatsu, Hiroshi Kumigashira
■ DOI：10.1063/5.0223269

詳細（APL Materials ウェブサイト）
ナノ機能物性化学研究分野（組頭広志研究室）