Facilities
Synthesis
| 横型透明電気炉（2台）/ Horizontal gold furnace (2 units) |
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| 縦型透明電気炉（2台）/ Vertical gold furnace (2 units) |
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| ロータリーキルン / Rotary kiln |
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| 1800℃高温熱処理装置 / High temperature oven up to 1800℃ |
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| 加熱圧縮装置 / Hot-pressing device |
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| マッフル炉 / Muffle furnace |
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| 真空グローブボックス（3台）/ Vacuum glove box (3 units) |
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| スパッタリング装置 / Sputtering system |
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| マイクロ波合成装置 / Microwave synthesis reactor |
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| 一方向凍結装置 / Unidirectional freezing system |
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| 凍結乾燥装置 / Freeze drying system |
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| 3Dスキャナー / 3D scanner |
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| 3Dプリンター / 3D printer |
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Analysis
| 透過型電子顕微鏡(TEM) / Transmission electron microscope (TEM) |
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| X線光電子分光装置(XPS) / X-ray photoelectron spectrometer (XPS) |
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| X線回折装置(XRD) / X-ray diffractometer (XRD) |
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| ガス/蒸気吸着量測定装置（2台）/ Gas/vapor adsorption measurement device (2 units) |
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| ガス吸着量測定装置 / Gas adsorption measurement device |
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熱重量-示差走査熱-質量分析装置(TG-DSC-MS) / Thermogravimeter-Differential scanning calorimetry-Mass spectrometry (TG-DSC-MS) |
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| 熱重量-示差熱分析装置(TG-DTA) / Thermogravimeter-Differential thermal analyzer (TG-DTA) |
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| 熱重量分析装置(TG) / Thermogravimeter (TG) |
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昇温脱離-ガス分析装置(TPD-GC) / Temperature programmed desorption-Gas chromatography (TPD-GC) |
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1800℃真空昇温脱離分析装置(TPD) / Vacuum temperature programmed desorption (TPD) up to 1800℃ |
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| 紫外可視分光光度計(UV/vis) / Ultraviolet/visible spectrometer (UV/vis) |
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| 蛍光分光光度計 / Fluorescence spectrophotometer |
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In-situ拡散反射フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR) / In-situ diffusion reflectance Fourier transform infrared spectrometer (FT-IR) |
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| レーザーゼータ電位計 / Laser zeta potential analyzer |
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| 粒度分布測定装置 / Particle size analyzer |
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| マイクロカロリメーター / Micro calorimeter |
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| 原子間力顕微鏡(AFM) / Atomic force microscope (AFM) |
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| デジタル顕微鏡 / Digital microscope |
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Performance
| 電気化学測定装置/ Electrochemical measurement system |
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| 充放電装置 / Battery charge/discharge device |
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| 高圧ガス吸着装置 / High pressure gas adsorption analyzer |
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| 試験機 / Testing machine |
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| ガスクロマトグラフィー(GC) / Gas chromatography (GC) |
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| 高速液体クロマトグラフィー(HPLC) / High performance liquid chromatography (HPLC) |
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Frequently used common facilities