構造組織解析装置

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共通電子顕微鏡

透過型分析電子顕微鏡 (LEO-922)

電子分光フィルターを内蔵しており、スリットの選択によりゼロロス像や特定エネルギー値の非弾性散乱電子を選択することによって元素マッピングが可能とした装置

C1-1

設置場所:共通電顕室(科学計測研究棟S116-1室)
管理者:寺内正己 教授
連絡先:022-217-5372

電界放射型電子顕微鏡

装置仕様: SU6600+OxfordEDX, EBSP
メーカー:日立

従来タイプのSEMに比べて高分解能観察や明視野での観察など飛躍的な性能を持つ。EDX・EBSPが取り付けられており、元素分析や結晶方位分析が可能。迅速なナノメータエリアの表面観察・分析を可能とした装置。

C3-1

設置場所:走査型電子顕微鏡室(科学計測研究棟S103室)
管理者:殷シュウ 教授
連絡先:022-217-5598

ナノエリア解析システム

微小領域の電磁場観察が可能な電子線ホログラフィー/ローレンツ顕微鏡法の実験に適した300kV透過電子顕微鏡。化合物の組成や結合状態の分析に有用な電子エネルギー損失分光法(EELS)の機能も備えている。

C5

設置場所:電子線干渉計測研究分野実験室 (科学計測研究棟S115室)
管理者:進藤大輔 教授
連絡先:022-217-5170

走査型プローブ顕微鏡 (AFM)

装置仕様:SPA-400
メーカー:エスアイアイ・ナノテクノロジー

固体基板上の薄膜の表面観察を行う。AFMモードおよびDFMモードでの20μmあるいは150μm四方の領域での測定が可能である。

E7

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2117号室)
管理者:三ツ石方也 教授
連絡先:022-217-5637

高分解能電解放出形走査電子顕微鏡 (FE-SEM)

装置仕様:S-4800
メーカー:日立

スパッタ無しでも絶縁物を超高分解能で観察可能。EDAXが付随しているため、元素分析も可能。汎用性があり使用法も簡単。

E12

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2113号室)
管理者:西原洋知 准教授
連絡先:022-217-5627

全自動粉末X線回折装置

全自動粉末X線回折装置
装置仕様: RINT2200横型ゴニオ
メーカー:リガク

汎用的な粉末回折装置で、物質の結晶相、結晶構造、結晶子サイズの測定など特性評価をする。管球はCuで室温測定のみ。

C2-1

設置場所:X線分析室(素材工学研究棟1号館314室)
管理者:木村宏之 教授
連絡先:022-217-5354

蛍光X線分析装置

装置仕様: ZSX PrimusII
メーカー:リガク

上面照射タイプの走査型蛍光X線装置.測定可能元素範囲は4Be?92U.最小分析径φ0.5mmが可能.X線管は4kW(Rh).SQXソフトにより,軽元素ベースの物質の定量分析がより正確に行える.

C2-2

設置場所:素材研棟1号館314号室)
管理者:蟹江澄志 准教授
連絡先:022-217-5165

環境制御型走査電子顕微鏡 (E-SEM)

装置仕様:XL30ESEM
メーカー:PHILIPS

雰囲気ガスを制御することにより、通常の高真空SEMに比べて低真空下での観察が可能となり、水分を含んだ試料や絶縁物の無処理観察が可能な装置。検出器は、低真空モード(0.1~10Torrに対応)高真空モードに分かれており、試料近傍の雰囲気ガスの分圧を制御した状態で、試料のナノ構造の観察ができる。加熱ステージは、1300℃まで試料加熱を行いながら、高温・通電下で試料の構造・組成をin-situ観察できる。EDAXを装備しており、C~Uの元素分析も行うことができる。

E9

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2118号室)
管理者:雨澤浩史 教授
連絡先:022-217-5340

共通X線装置

1.RINT-V
CuのKαで室温専用の粉末回折装置

C4-1

2.RINT-H
Mo,(Fe,Cu)で1100℃の特殊用途粉末回折装置

C4-2

3.小角散乱装置

C4-3

4.X’Pert
薄膜評価装置。膜厚と結晶性が評価可能。

SA3A0001

設置場所:共通X線室(科学計測研究棟S133室)
管理者:木村宏之 教授
連絡先:022-217-5354

単結晶自動X線構造解析装置

装置仕様: MicroMax R-AXIS VII
メーカー:リガク

結晶構造を決定するために、単結晶のX線回折データをイメージングプレートによって収集する装置。特にタンパク質などの高分子結晶に最適化されている。

E6

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2115号室)
管理者:稲葉謙次 教授
連絡先:022-217-5604

三次元マイクロストレスX線回析装置

装置仕様: D8 Discover with GADDS
メーカー:Bruker

従来計測不可能であった、微小部における応力テンソルを測定可能。

C6

設置場所:X線分析室 (科学計測研究棟S134-1室)
管理者:鈴木 茂 教授
連絡先:022-217-5168

Laue写真装置

現在故障で使用不可

C7

設置場所:固体イオン物理研究分野実験室 (科学計測研究棟S111室)
管理者:河村純一 教授
連絡先:022-217-5344

レーザーイオン化質量分析装置(MALDI-TOF/MS)

装置仕様: REFLEXIII
メーカー:ブルカーダルトニクス

マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置。
大型の生体分子(タンパク質、核酸、多糖など)の質量を微量サンプルで分析可能。

E1

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2105号室)
管理者:柴田浩幸 教授
連絡先:022-217-5663

イオントラップ型質量分析装置(ESI-TOF/MS)

装置仕様: BioTOF II
メーカー:ブルカーダルトニクス

溶液サンプルをエレクトロスプレーでイオン化し、20,000以上の分解能で質量分析を行う装置。低分子からタンパクなどの高分子まで測定可能。

E2

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2105号室)
管理者:柴田浩幸 教授
連絡先:022-217-5663

高分解能フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR)

装置仕様: FTS-7000
メーカー:バリアン

高性能赤外吸収スペクトル測定装置。高感度透過法、顕微法、全反射法、拡散反射法、雰囲気制御反射法など、ユーザーのニーズに合う各種基礎から応用まで多彩な測定が可能。

E3

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2106号室)
管理者:蟹江澄志 准教授
連絡先:022-217-5165

示差熱天秤-質量分析同時測定装置 (TG-DTA/GC-MS)

装置仕様: TG-DTA8120
メーカー:リガク

温度上昇によるサンプルの重量変化を測定すると共に、昇温時に発生したガスを質量分析する装置。

E4

設置場所:ナノテクニカルラボ (反応研棟2号館2106号室)
管理者:蟹江澄志 准教授
連絡先:022-217-5165

熱分析装置

一定の速度で温度を変化させ、試料の重量変化や熱物性を測定する
1.超高温示差走査熱量計
装置仕様: UHT/DSC
メーカー:ブルカーエイエックスエス、マックサイエンス(株)

D5-2

2.熱膨張計
装置仕様: TD5030SA
メーカー:ブルカーエイエックスエス(株)

D5-3

設置場所:素材工学研究棟1号館314室
管理者:柴田浩幸 教授
連絡先:022-217-5663

精密万能試験機

装置仕様: AG-20KN
メーカー:島津

材料の引張、圧縮、曲げ、せん断、ねじり強度などの物性測定が可能。

C17

設置場所:共同研究棟 (実験室1)
管理者:殷シュウ 教授
連絡先:022-217-5598

紫外可視分光光度計

装置仕様: UV-2450(積分球付)
メーカー:島津

溶液の吸収スペクトルや吸光度測定、固体の拡散反射スペクトル測定等が可能。

C18

設置場所:共同研究棟 (実験室1)
管理者:殷シュウ 教授
連絡先:022-217-5598

レーザー回折式粒度分布測定装置

装置仕様: SALD-7000
メーカー:島津

レーザ回折・散乱法により、10nm(0.01μm)~300μmの粉末粒度分布測定が可能。

C19

設置場所:共同研究棟 (実験室1)
管理者:殷シュウ 教授
連絡先:022-217-5598

表面粗さ測定装置

製造元:小坂研究所
型番 :SE3500
鋭い先端の針を試料表面に接触・走査し、その上下運動に伴う電気信号により表面性を評価する。

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設置場所:材料・物性総合研究棟II101共通機器室
管理者:北上 修教授
連絡先:022-217-5357