装置
計測装置
高分解能X線タイコグラフィ計測システム
(a) タイコグラフィ装置全体、
(b) Advanced Kirkpatrick–Baezミラー、
(c) CITIUS検出器
主な仕様
- 設置場所
- NanoTerasu BL10U EH2
- X線エネルギー
- 2.1–10.0 keV
- 集光光学系
- Advanced Kirkpatrick–Baez集光ミラー(株式会社ジェイテックコーポレーション製)
- 検出器
- CITIUS 840k(魁サイエンティフィック株式会社製)
- 主な計測法
- X線タイコグラフィ、スペクトロ・タイコグラフィ、タイコグラフィCT
- 加熱オプション
- Norcada社製MEMSヒーターを用いた試料加熱（真空中、約1000℃まで）
走査電子顕微鏡（SEM）
主な仕様
- 装置
- JEOL JSM-IT510
- 設置場所
- 反応棟1号館109室
- 分解能
- 高真空モード：3.0 nm (30 kV)、15.0 nm (1.0 kV)
低真空モード：4.0 nm (30 kV BED) - 撮影倍率
- ×5 ～ ×300,000
（128 mm × 96 mmを表示サイズとして倍率を規定） - 表示倍率
- ×14 ～ ×839,724
（358 mm × 269 mmを表示サイズとして倍率を規定） - 電子銃
- Wフィラメント、完全自動ガンアライメント
- 加速電圧
- 0.3～30 kV
- 付属機能
- 大気非曝露トランスファーシステム、EDX
- 主な用途
- 試料表面・微細構造の観察、元素分析
走査型共焦点レーザ顕微鏡
主な仕様
- 装置
- OLYMPUS LEXT OLS3100
- 設置場所
- 反応棟1号館109室
- 仕様
- レーザスキャン仕様／ユニバーサル仕様
- レーザ
- 408 nm 半導体レーザ（クラス2）
- 対物レンズ
- 5×、10×、20×、50×、100×
- ステージ
- 測定ステージ付
測定顕微鏡
主な仕様
- 装置
- OLYMPUS STM6
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 試料の寸法測定、位置・形状確認
デジタルマイクロスコープ
主な仕様
- 装置
- KEYENCE VHX-6000 デジタルマイクロスコープ
- 設置場所
- NanoTerasu BL10U
- 主な用途
- 試料の観察、位置確認、アライメント
リハーサルチャンバー
主な仕様
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 放射光測定に向けた各種リハーサル
計算機
GPU計算機システム
主な仕様
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 位相回復計算、CT再構成
- NVIDIA A100
- 80 GB × 1
- NVIDIA Tesla V100
- 32 GB × 4
- NVIDIA Titan V
- 計22基（1基、2基、4基構成の計算機で運用）
- NVIDIA Quadro GV100
- 32 GB × 1
- NVIDIA Quadro P2200
- 6 GB × 4
- NVIDIA Tesla K80
- 4ボード（GPUメモリ 12 GB × 8）
- NVIDIA Tesla K40
- 2基
試料調製
集束イオンビーム（FIB）加工装置
主な仕様
- 装置
- Hitachi FB-2100
- 設置場所
- 反応棟1号館109室
- 主な用途
- X線イメージングに向けた試料加工、微小試料の成形
コーター
主な仕様
- 装置
- SANYU ELECTRON Quick Coater SC-701 MkII ADVANCE
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 試料表面への導電性薄膜コーティング
スパッタ装置
主な仕様
- 装置
- SANYU ELECTRON SVC-700TM SG
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 金属薄膜の成膜、試料表面へのスパッタコーティング
カーボンコータ
主な仕様
- 装置
- JEOL JEC-560 Auto Carbon Coater
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 試料表面へのカーボン薄膜コーティング
イオンコータ
主な仕様
- 装置
- EIKO IB-3 Ion Coater
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 試料表面への導電性薄膜コーティング
真空式グローブボックス
主な仕様
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- メーカー
- 美和製作所
- 主な用途
- 大気非曝露環境での試料取扱い、試料調製
ドラフトチャンバー
主な仕様
- 設置場所
- 材物棟1 603室
- 主な用途
- 薬品を用いた試料調製、化学処理
超純水製造装置
主な仕様
- 装置
- Merck Millipore Direct-Q 3 UV
- 主な用途
- 超純水の製造、試料調製・洗浄
3Dプリンタ
主な仕様
- 装置
- Markforged Onyx Series
- 設置場所
- 材物棟1 601室
- 主な用途
- 実験治具、試料ホルダー、各種機械部品の製作
