装置

中に窒素が充填されており、不活性雰囲気での操作ができるようになっています。

グローブボックスに流す窒素を製造してくれる機械です。窒素ボンベから供給する方法と比べるとイニシャルコストは高いですが、 窒素を大量に製造してくれるので、ランニングコストを気にせずにバンバン窒素を使うことができます。

オイルバスでの加熱などに使います。

粉末試料を混合するのに使います。 乳鉢で湿式混合するのが固相反応合成の基本ですが、やっぱり電動化すると楽ですね。

(理研機器)粉末試料を圧粉してペレット化するのに使います。 お手軽で結構便利です。

ガラスの合成や、酸化物半導体の焼成に用いています。

酸化物半導体の焼成や熱処理に用いています。上段は小俣先生の手作りの管状炉です。

（ケニックス製/KDK-800）ガラス中の“アルカリイオン”と“プロトン”を交換(AP置換)するのに用いる特注の装置です。

（マルトー製/ML-160A）サンプルを置いておくだけで自動で研磨してくれるすごい機械です。

（JEOL製/JFC-1600）サンプル表面に金属薄膜電極を作製するための小型スパッタです。ワンタッチで成膜ができて超手軽に使えます。

（EIKO製）粉末試料をターゲットとしたスパッタが出来る装置です。酸化物半導体や燃料電池の電極の成膜に用いています。

（新明和製）３つのターゲットまで同時にスパッタが可能な装置です。

粉末試料をターゲットとしたスパッタが出来る装置です。 ターゲットサイズが１インチのため、２インチと違って、試料が少なくてもスパッタできます。 グローブボックスと接続されているため、吸湿性のターゲットや薄膜も難なく扱うことができます。

（ケニックス製/KB-200）電子ビームでターゲットを加熱して蒸着をする装置です。融点の高いセラミクスの薄膜が作製できます。

（リガク製/RINT-2550）試料の結晶相の同定（θ-2θスキャン）が主な用途です。エピタキシャル薄膜の配向性評価（ωスキャン）などにも用います。いつもフル稼働しているなくてはならない装置です。2018年引退予定。

（日立ハイテク製/U-4100）薄膜の透過率を測定するのに用います。測定可能な波長範囲が175nm～2600nmなので、近赤外域から紫外域まで、幅広く光学特性を分析することができます。

（日立ハイテク製/U-4000）積分球が装備されています。主に、粉末の拡散反射スペクトルの測定に用いています。これで粉末試料のバンドギャップを決定することができます。

（分光計器製/ハイパーモノライト）300～1150nmの単色光を照射できる装置です。主にフォトカレント（光電流）を測定するのに使っています。

（Wyko製/Surface Profiler）サンプルの表面の凹凸を2次元に測定することができます。薄膜の膜厚の測定に使っています。

（日本分光製/NRS-3100CX）ラマン散乱によって、サンプルのローカルな結合状態を観察するのに用いています。

（日本分光製/FT-IR-610）測定可能な波数範囲が350～7800cm-1の赤外分光計です。

（日本分光製/FP-750）フォト・ルミネッセンス(PL)を測定するのに用いています。

薄膜サンプルのエレクトロ・ルミネッセンス(EL)を測定するのに用いています。蛍光灯などによるノイズを受けないように黒い暗幕がついてます。デジボルや電源も備え付けられているので、各種サンプルの伝導度測定もここでやっています。

高出力He-Cdレーザーを励起光にしてPLの測定ができます。 付属のサンプル室は、クライオポンプによる冷却機構とターボポンプによる排気機構が付いており、 極低温・真空下でのPL測定ができます。 サンプル室には電極のパススルーも備わっているので、極低温下での伝導度測定もできます。

（セイコーインスツルメンツ/TG-DTA6300 & TG-DTA5200）熱重量・示差熱測定装置 温度変化によるサンプルの質量変化や、発熱・吸熱を測定します。 無機化合物の耐熱性やガラスの転移点を調べるのに使っています。

（株式会社ルシール他）近赤外領域において、蛍光を測定する装置です。

（株式会社ルシール他）蛍光の寿命を測定し、発光の起源を同定するのに使います。