構造組織解析装置

電界放射型電子顕微鏡

装置仕様： SU6600+OxfordEDX, EBSP
メーカー：日立

従来タイプのSEMに比べて高分解能観察や明視野での観察など飛躍的な性能を持つ。EDX・EBSPが取り付けられており、元素分析や結晶方位分析が可能。迅速なナノメータエリアの表面観察・分析を可能とした装置。

ナノエリア解析システム

微小領域の電磁場観察が可能な電子線ホログラフィー／ローレンツ顕微鏡法の実験に適した300kV透過電子顕微鏡。化合物の組成や結合状態の分析に有用な電子エネルギー損失分光法(EELS)の機能も備えている。

高分解能電解放出形走査電子顕微鏡 (FE-SEM)

装置仕様：S-4800
メーカー：日立

スパッタ無しでも絶縁物を超高分解能で観察可能。EDAXが付随しているため、元素分析も可能。汎用性があり使用法も簡単。

全自動粉末X線回折装置

全自動粉末X線回折装置
装置仕様： RINT2200 横型ゴニオメータ
メーカー：リガク
汎用的な粉末回折装置。Cu管球、室温測定のみ。

蛍光X線分析装置

装置仕様： ZSX PrimusII
メーカー：リガク

上面照射タイプの走査型蛍光X線装置．測定可能元素範囲は4Be?92U．最小分析径φ0.5mmが可能．Ｘ線管は4kW(Rh)．SQXソフトにより，軽元素ベースの物質の定量分析がより正確に行える．

共通X線装置

１．RINT-V
装置仕様:リガク RINT2200 縦型ゴニオメータ
Cu管球で室温専用の粉末回折装置。

２．RINT-H(右)
装置仕様:リガク RINT2200横型ゴニオメータ
試料高温装置の付いた粉末回折装置。

３．小角散乱装置(RINT‐H (左))

装置仕様:リガク 小角・広角X線回折装置 SWXD 3スリット 光学系

４．X’Pert

装置仕様:PHILIPS X’Pert‐MRD
薄膜評価装置。反射率測定等が可能。

単結晶自動Ｘ線構造解析装置

装置仕様： MicroMax R-AXIS VII
メーカー：リガク

結晶構造を決定するために、単結晶のX線回折データをイメージングプレートによって収集する装置。特にタンパク質などの高分子結晶に最適化されている。

レーザーイオン化質量分析装置（MALDI-TOF/MS)

装置仕様： autoflex speed
メーカー：ブルカーダルトニクス

マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置。
大型の生体分子（タンパク質、核酸、多糖など）の質量を微量サンプルで分析可能。

四重極‐飛行時間型質量分析装置(Q‐TOF/MS)

装置仕様： micrOTOF‐Q II
メーカー：ブルカーダルトニクス

溶液サンプルをエレクトロスプレーでイオン化し、10,000以上の分解能で質量分析を行う装置。低分子からタンパク質などの高分子まで測定可能。

高分解能フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR)

装置仕様： FTS-7000
メーカー：バリアン

高性能赤外吸収スペクトル測定装置。高感度透過法、顕微法、全反射法、拡散反射法、雰囲気制御反射法など、ユーザーのニーズに合う各種基礎から応用まで多彩な測定が可能。

熱分析装置

一定の速度で温度を変化させ、試料の重量変化や熱物性を測定する

熱膨張計
装置仕様：　TD5030SA
メーカー：ブルカーエイエックスエス（株）

レーザー回折式粒度分布測定装置

装置仕様：　SALD-7000
メーカー：島津

レーザ回折･散乱法により、10nm（0.01μm）～300μmの粉末粒度分布測定が可能。

表面粗さ測定装置

製造元：小坂研究所
型番　：SE3500
鋭い先端の針を試料表面に接触・走査し、その上下運動に伴う電気信号により表面性を評価する。

大型ステージ走査型プローブ顕微鏡

製造元：SIIナノテクノロジー (現 日立ハイテクフィールディング)
型番　：L-traceⅡ
直径150 mm (6インチ) までの大型試料を切断せずに表面形状を高精度に低倍率から高倍率までのワイドレンジで測定できる．金属，半導体，セラミックスなどの表面形状を垂直方向の分解能が0.1 nm以下で計測可能．また，磁気力などの物性も評価できる．

微小領域分析用X線回折システム

製造元：Bruker
型番　：D8 Discover 2D
数十μm程度の領域の、X線回折測定が可能。残留応力測定や極点図測定も可能。