基盤設備

液体窒素供給システム

多元研で使用される液体窒素の貯留保存容器と供給装置。
本装置を用いて、年間約50,000 リットルの液体窒素が使用されている。
低温物性測定、超高真空薄膜成長装置・各種計測装置等の実施に不可欠の装置。

ヘリウムガス回収装置

年間約10kLのヘリウムを回収している。
所内で使用されたヘリウムは回収され、金属材料研究所極低温センターで液化されて再利用にまわる。

アーク溶解炉

アーク放電により試料を溶解させ、合金等の試作に使用する。

真空アーク溶解炉
装置仕様：　ACM-08-1000S型
メーカー：大亜真空（株）

高電圧パルス選択性粉砕装置

設備名称：高電圧パルス選択性粉砕装置
製造元：SELFRAG
型番：SELFRAG Lab S2.0
水中の個体試料に高電圧パルス放電をすることで界面に沿った破壊を起こし、選択的な粉砕を行うことができます。操作が簡単で短時間に処理ができ、コンタミネーションを最小限に抑えることができます。また、連続して高電圧パルス放電をかけることが可能です。

高精度微小荷重試験機

設備名称：高精度微小荷重試験機
製造元：Instron
型番：5548型
高剛性のロードフレームとサブミクロン精度の変位測定系で構成された高精度微小荷重試験機 (最大荷重容量 : 2 kN)．金属，ポリマーの薄板，膜などの材料に対して静的および動的な引張試験，サイクル試験が行える汎用機．0-1.1 Tの磁場中での試験が可能．レーザー変位計により試料の変位を直読可．また，治具を作製することにより，圧縮，曲げ，せん断試験にも対応．