基盤設備

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液体窒素供給システム

多元研で使用される液体窒素の貯留保存容器と供給装置。
本装置を用いて、年間約50,000 リットルの液体窒素が使用されている。
低温物性測定、超高真空薄膜成長装置・各種計測装置等の実施に不可欠の装置。

SA3A0002

設置場所:科学計測研究棟中庭
管理者:秩父重英 教授
連絡先:022-217-5360

ヘリウムガス回収装置

年間約10kLのヘリウムを回収している。
所内で使用されたヘリウムは回収され、金属材料研究所極低温センターで液化されて再利用にまわる。

SA3A0003

設置場所:低温室(科学計測研究棟S134-1), 材料物性棟2号館5F
管理者:秩父重英 教授
連絡先:022-217-5360

ゾーン融解型単結晶育成装置

Xeランプおよびハロゲンランプ光源の2機種を整備し、試料の融点によって使い分けることにより高品質の単結晶試料の作成を行っている。

D4

設置場所:固体イオン物理研究分野実験室 (科学計測研究棟S111室)
管理者:河村純一 教授
連絡先:022-217-5344

アーク溶解炉

アーク放電により試料を溶解させ、合金等の試作に使用する。

1.真空アーク溶解炉
装置仕様: ACM-08-1000S型
メーカー:大亜真空(株)

D6-1

2.小型真空アーク溶解炉
装置仕様: ACM-2S-1000型
メーカー:大亜真空(株)

D6-2

設置場所:1.基盤素材プロセッシング分野(素材工学研究棟108室)
2.科学計測研究棟 旧車庫
管理者:柴田浩幸 教授
連絡先:022-217-5663